书目信息 |
| 题名： |
纳米集成电路制造工艺
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| 作者： | 张汝京 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 清华大学出版社 2017.01 |
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| 页数： | 14,471页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN405 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 纳米材料--集成电路工艺 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-302-45233-1 | |
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| 330 | @a本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM(Design for Manufacturing)，集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 | |
| 333 | @a本书适合国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本书作为教科书或参考资料 | |
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| 纳米集成电路制造工艺=Nanoscale integrated circuits——the manufacturing process/张汝京等编著.-2版.-北京：清华大学出版社，2017.01 |
| 14,471页：图；26cm |
| 使用对象：本书适合国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本书作为教科书或参考资料 |
| ISBN 978-7-302-45233-1：CNY89.00 |
| 本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM(Design for Manufacturing)，集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。 |
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正题名：纳米集成电路制造工艺
索取号：TN405/149=2
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 985437 | 209854371 | 第二样本阅览室/ [索取号:TN405/149=2] | 在馆 | |
| 2 | 985438 | 209854380 | 第三借阅区/ [索取号:TN405/149=2] | 在馆 | |
| 3 | 985439 | 209854399 | 第三借阅区/ [索取号:TN405/149=2] | 在馆 |