书目信息 |
| 题名： |
高分子材料进展
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| 作者： | 张留成 ， 闫卫东 ， 王家喜 编 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 化学工业出版社 2005 |
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| 页数： | 443页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TB324 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 高分子材料--研究生--教材 , 高分子材料 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 7-5025-6956-1 | |
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| 高分子材料进展/张留成，闫卫东，王家喜编.-北京：化学工业出版社，2005 |
| 443页；26cm |
| 研究生规划教材 |
| ISBN 7-5025-6956-1：CNY56.00 |
| 全书共分5章，分别介绍了高分子材料合成反应、高分子合成反应实施技术、多组分高分子材料、液晶高分子材料以及功能高分子材料方面的研究进展。 |
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| 相关链接 |
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正题名：高分子材料进展
索取号：TB324/167
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 0850212 | 208502128 | 第二样本阅览室/ [索取号:TB324/167] | 在馆 | |
| 2 | 0850213 | 208502137 | 第三借阅区/ [索取号:TB324/167] | 在馆 | |
| 3 | 0850214 | 208502146 | 第三借阅区/ [索取号:TB324/167] | 在馆 | |
| 4 | 0850215 | 208502155 | 密集书库/ [索取号:TB324/167] | 在馆 | |
| 5 | 0850216 | 208502164 | 密集书库/ [索取号:TB324/167] | 在馆 |