书目信息 |
| 题名： |
光学设计实用技术
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| 作者： | 李澜 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 上海 上海科学技术出版社 2019 |
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| 页数： | 196页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN202 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 光学设计--Guang Xue She Ji | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5478-4254-6 | |
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| 304 | @a题名页题其余责任者: 邹军, 王凤超等 | |
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| 330 | @a《光学设计实用技术》是以工程光学为基础, 结合成像光学和非成像光学的经典实例, 全面系统地阐述了以ZEMAX光学设计软件作为辅助手段的光学设计实用技术。全书共7章, 层次分明、逻辑清楚、案例详实, 在设计实例中也穿插了LED光学设计的前沿。本书包括基本的像差理论和成像质量评价方法, ZEMAX光学设计软件功能介绍、优化、公差分析、非成像光学设计, 以及大量光学设计实例。 | |
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| 光学设计实用技术/李澜 ... [等] 编著.-上海：上海科学技术出版社，2019 |
| 196页：图；26cm |
| 使用对象：光学设计研究者 |
| ISBN 978-7-5478-4254-6：CNY48.00 |
| 《光学设计实用技术》是以工程光学为基础, 结合成像光学和非成像光学的经典实例, 全面系统地阐述了以ZEMAX光学设计软件作为辅助手段的光学设计实用技术。全书共7章, 层次分明、逻辑清楚、案例详实, 在设计实例中也穿插了LED光学设计的前沿。本书包括基本的像差理论和成像质量评价方法, ZEMAX光学设计软件功能介绍、优化、公差分析、非成像光学设计, 以及大量光学设计实例。 |
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正题名：光学设计实用技术
索取号：TN202/140
预约/预借
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| 1 | 1211642 | 212116422 | 第二样本阅览室/ [索取号:TN202/140] | 在馆 | |
| 2 | 1211643 | 212116431 | 第三借阅区/ [索取号:TN202/140] | 在馆 | |
| 3 | 1211644 | 212116440 | 第三借阅区/ [索取号:TN202/140] | 在馆 | |
| 4 | 1211645 | 212116459 | 第三借阅区/ [索取号:TN202/140] | 在馆 |